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LIBS激光誘導(dǎo)擊穿光譜分析儀

簡(jiǎn)要描述:LIBS激光誘導(dǎo)擊穿光譜分析儀不但適合實(shí)驗(yàn)室使用,同樣適合工業(yè)設(shè)備的集成;強(qiáng)大的設(shè)計(jì)提供非常低的溫度影響,使其能夠承受惡劣的環(huán)境,同時(shí)可任意方向安裝,以任何想要的方向來對(duì)準(zhǔn)樣品,不受場(chǎng)地及環(huán)境限制;

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2025-02-12
  • 訪  問  量:5539
詳細(xì)介紹
品牌其他品牌應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,石油,地礦,能源

 

LIBS是Laser-Induced Breakdown Spectroscopy (激光誘導(dǎo)擊穿光譜儀)的簡(jiǎn)稱,該技術(shù)通過超短脈沖激光聚焦樣品表面形成等離子體,利用光譜儀對(duì)等離子體發(fā)射光譜進(jìn)行分析,以此來識(shí)別樣品中的元素組成成分,進(jìn)而可以進(jìn)行材料的識(shí)別、分類、定性以及定量分析。

 

自從LIBS技術(shù)問世以來,該技術(shù)就被*為是一種前景廣闊的新技術(shù),將為分析領(lǐng)域帶來眾多的創(chuàng)新應(yīng)用。LIBS作為一種新的材料識(shí)別及定量分析技術(shù),既可以用于實(shí)驗(yàn)室,也可以應(yīng)用于工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)的在線檢測(cè);

 

LIBS彌補(bǔ)了傳統(tǒng)元素分析方法的不足,尤其在微小區(qū)域材料分析、鍍層/薄膜分析、缺陷檢測(cè)、珠寶鑒定、法醫(yī)證據(jù)鑒定、粉末材料分析、合金分析等應(yīng)用領(lǐng)域優(yōu)勢(shì)明顯,同時(shí),LIBS還可以廣泛適用于地質(zhì)、煤炭、冶金、制藥、環(huán)境、科研等不同領(lǐng)域的應(yīng)用。

 

除了傳統(tǒng)的實(shí)驗(yàn)室的應(yīng)用,LIBS還是為數(shù)不多的可以做成便攜裝置的元素分析技術(shù),更是目前為止被認(rèn)為可以做在線分析的元素分析技術(shù)。這將使分析技術(shù)從實(shí)驗(yàn)室領(lǐng)域極大地拓展到戶外、現(xiàn)場(chǎng)、甚至生產(chǎn)工藝過程中;

 

Spectral Industries 推出的全新時(shí)間門控LIBS測(cè)量系統(tǒng),是一套高效,功能強(qiáng)大,通用型強(qiáng)的LIBS測(cè)量系統(tǒng),無論在實(shí)驗(yàn)室或戶外操作,均可*應(yīng)對(duì)各種測(cè)試環(huán)境,甚至其IRIS 光譜儀可用于空間環(huán)境!

LIBS激光誘導(dǎo)擊穿光譜分析儀具有如下特點(diǎn)及優(yōu)勢(shì): 

超高數(shù)值孔徑(F/2)基于*設(shè)計(jì)的IRIS 中階梯光柵光譜儀的其LIBS系統(tǒng)可以獲得優(yōu)于其他對(duì)手的優(yōu)質(zhì)信噪比;

使用中階梯光譜儀: 兼顧高分辨率(0.1-0.4nm)及寬的光譜覆蓋范圍180-800nm,880-1100nm;

配備高效光學(xué)激光聚焦及信號(hào)收集系統(tǒng):可以獲得更低的探測(cè)極限以及更短的積分時(shí)間;

使用優(yōu)選的全自動(dòng)控制的激光源以及3軸電動(dòng)位移臺(tái): 軟件全自動(dòng)控制,協(xié)調(diào)工作,同時(shí)保持OEM定制靈活性;

<10ns 精確時(shí)延抖動(dòng): 有效避免韌致輻射背景噪聲干擾;

靈活小巧一體化的設(shè)計(jì):不但適合實(shí)驗(yàn)室使用,同樣適合工業(yè)設(shè)備的集成;強(qiáng)大的設(shè)計(jì)提供非常低的溫度影響,使其能夠承受惡劣的環(huán)境,同時(shí)可任意方向安裝,以任何想要的方向來對(duì)準(zhǔn)樣品,不受場(chǎng)地及環(huán)境限制;

 LIBS激光誘導(dǎo)擊穿光譜分析儀

Spectral Industries 的全套LIBS 系統(tǒng)包括:

IRIS 中階梯光柵光譜儀

納秒脈沖主動(dòng)調(diào)Q激光器

用于門控LIBS 測(cè)量的脈沖延遲發(fā)射器

激光聚焦及信號(hào)收集光學(xué)系統(tǒng)

自動(dòng)控制-3軸電動(dòng)位移臺(tái)

軟件全硬件控制,Matlab數(shù)據(jù)處理作圖;

?

LIBS 系統(tǒng)(未包括譜儀及樣品臺(tái))

 IRIS 中階梯光譜儀

SPECTRAL LIBS 系統(tǒng)指標(biāo)參數(shù)

光譜儀

IRIS UV(200-800nm)or IRIS-DUV(氮?dú)獯祾?/span>180-800nm,880-1100nm)

光譜儀

光學(xué)系統(tǒng)

高效激光聚焦及信號(hào)收集光學(xué)系統(tǒng)

激光器

可選擇不同單脈沖能量及頻率的 主動(dòng)調(diào)Q 納秒脈沖激光器

脈沖延遲發(fā)生器

<10 ns抖動(dòng) ,100ns 時(shí)間延遲步距調(diào)整

位移臺(tái)

3軸電動(dòng)位移臺(tái),50*50mm移動(dòng)范圍;(其他尺寸可選)

氣體吹掃

吹掃接口閥門適用于深紫外測(cè)試:<200nm波段;

工作距離

> 50-500 mm (更大距離可選)

激光聚焦光斑尺寸

<=100 µm

 

IRIS 中階梯光譜儀參數(shù)指標(biāo)

光譜范圍

180 - 800 nm and 880-1100nm (包括吹掃選項(xiàng))

光譜分辨率

0.1 - 0.45 nm (@ 180-800 nm, for 25 µm wide slit)

F-數(shù)值孔徑

f/2

狹縫尺寸

25 x 100 µm(其他尺寸可選: 10 x 100 µm2 and 50 x 100 µm2) 

波長(zhǎng)穩(wěn)定性

< 5 pm/K

尺寸

220 x 195 x 80 mm3 (包括相機(jī))

重量

3 kg (包括相機(jī))

相機(jī)

CMOS 探測(cè)器 (深紫外增強(qiáng)型),積分時(shí)間28 µs – 30 s

 

LIBS 系統(tǒng)元素探測(cè)極限(部分)

  

典型現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)用案例

 

實(shí)驗(yàn)室礦石表面Mapping分析

--鉆孔巖心棒元素分布2D圖譜

 

--鋰礦巖石表面元素分布圖

 


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